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1、 气体分配装置包括上中下三层分配板，三层分配板之间形成两条相互隔离的气体输送路径，该两条气体输送路径完全隔离，容易反应的气体因此可以通过不同的输送路径进入等离子体处理设备的反应腔室，有效避免了容易反应的气体在气体分配装置中的接触，进而完全消除了气体在进入反应腔室之前发生反应的可能。

2、同时，由于上述两条气体输送路径相交错，自不同输送路径进入反应腔室的两路气体可以实现较为充分的混合。